• 儀器開放年度：2007年
• 廠牌及型號：日本ULVAC-PHI , PHI 700
• 重要規格：
  1. 電子鎗用Schottky thermal field emitter，電壓為0.1-25kV
  2. 能量分析儀採Cylndrical Mirror Analyzer (CMA) 加上 multichannel detector
  3. 離子鎗電壓為100~5000eV
  4. Energy resolution = 0.5%
  5. SEM resolution = 6nm @ 20KV, 1nA
  6. SAM resolution = 8nm @ 20KV, 1nA
  7. Auger Sensitivity(10KV, 10nA, 0.6% resolution) = 700Kcps
• 主要附件：
  1. Auger Sensitivity(10KV, 10nA, 0.6% resolution) = 700Kcps
  2. 5KV Ion Gun，可作清潔sample的表面和depth profile分析並可利用低電壓Ion Gun中和試片電荷，以量測絶緣樣品
  3. 真空系統採用220升/秒離子幫浦和鈦昇華幫浦，經一夜烘烤，可得5×10^-10 Torr以下的高真空度
  儀器性能：
  1. 測量奈米尺度樣品之表面或界面的電子結構，以瞭解原子的鍵結狀態

    計畫付費

• 450元/小時，離子槍蝕刻5元/分，列印數據5元/張
  ★自行操作酌收儀器保養費每小時350元，其餘皆與日間相同

• 3,500元/小時，離子槍蝕刻50元/分，列印數據50元/張