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高解析電子能譜儀(HRXPS)

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儀器中文名稱:高解析電子能譜儀
儀器英文名稱:High resolution X-ray Photoelectron Spectrometer
儀器英文簡稱:HRXPS
儀器設備說明:
  • 儀器開放年度:2004年(2018年11月汰舊換新)
  • 廠牌及型號:ULVAC-PHI ,PHI QuanteraII
  • 重要規格:
    1. X-ray光源:Scanning X-ray Microprobe (Al anode)
    2. 能量分析儀:180º hemispherical Analyzer + 128 channel Detector
    3. Energy resolution (能量解析度)≦ 0.48eV @ Ag3d5/2
    4. Imaging resolution ≦7.5µm
    5. Angle resolved analysis5º~90º
    6. 真空系統 2.0 x 10-7 Pa
  • 主要附件:
    1. 5kV Argon ion gun,可清潔樣品表面及縱深分析
    2. 20kV Ar Gas Cluster Ion Beam (GCIB),適合有機物或高分子進行低破壞性的清潔表面及縱深分析
    3. 電性中和系統:具低能量電子束及低能量離子束之雙射源電荷補償系統,自動化中和
    4. 樣品定位定位系統含放大倍率(Sample Positioning Station with Zoom Lens):樣品進入真空前,微小樣品可先利用顯微鏡定位其座標,其空間解析度˂2µm
  • 儀器性能:偵測材料表面或縱深方面的元素組成及分佈,並瞭解個別成分元素 原子之鍵結狀態

 

111年1月份起收費標準﹕
計畫付費
1.測量費用每小時500元(包括樣品設定時間,測量過程開啓中和槍。)
2.使用GCIB離子槍測量費用每小時550元,另外加GCIB離子槍熱機費用550元。(需熱機8~10小時)
3.Ar Sputtering每小時500元
4.影印圖譜每張10元
5.樣品一律在排定測量前2天送達,抽真空計時2小時,收費200元。
非計畫付費
1.測量費用每小時4,000元(包括樣品設定時間,測量過程開啓中和槍。)
2.使用GCIB離子槍測量費用每小時4,500元,另外加GCIB離子槍熱機費用5,000元。(需熱機8~10小時)
3.Ar Sputtering每小時5,000元
4.影印圖譜每張10元
5.樣品一律在排定測量前2天送達,抽真空計時2小時,收費1,500元。

 

連絡資訊:
儀器指導教授:彭之皓 教授
TEL:(03)5715131Ext.33369
E-MAIL:chpeng@mx.nthu.edu.tw


儀器管理員:謝瑞蘭 小姐 / Ms. Swee-Lan Cheah
TEL:(03)5715131Ext.33432 FAX:(03)5722915
E-MAIL:hrxps_nscric@my.nthu.edu.tw
儀器放置地點:國立清華大學化學館139室

其它相關資訊:PDF下載 (服務項目、申請服務辦法、其它單位委託量測辦法、
                                          預期回件時間、參考資料)

 

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