• 儀器開放年度：2004年(2018年11月汰舊換新)
• 廠牌及型號：ULVAC-PHI ，PHI Quantera Ⅱ
• 重要規格：
  1. X-ray光源：Scanning X-ray Microprobe (Al anode)
  2. 能量分析儀：180º hemispherical Analyzer + 128 channel Detector
  3. Energy resolution (能量解析度)≦ 0.48eV @ Ag3d^5/2
  4. Imaging resolution ≦7.5µm
  5. Angle resolved analysis，角度5º~90º
  6. 真空系統≦ 2.0 x 10^-7 Pa
• 主要附件：
  1. 5kV Argon ion gun，可清潔樣品表面及縱深分析
  2. 20kV Ar Gas Cluster Ion Beam (GCIB)，適合有機物或高分子進行低破壞性的清潔表面及縱深分析
  3. 電性中和系統：具低能量電子束及低能量離子束之雙射源電荷補償系統，自動化中和
  4. 樣品定位定位系統含放大倍率(Sample Positioning Station with Zoom Lens)：樣品進入真空前，微小樣品可先利用顯微鏡定位其座標，其空間解析度˂2µm
• 儀器性能：偵測材料表面或縱深方面的元素組成及分佈，並瞭解個別成分元素原子之鍵結狀態

 

計畫付費

1.測量費用每小時500元(包括樣品設定時間，測量過程開啓中和槍)
2.使用GCIB離子槍測量費用每小時550元，另外加GCIB離子槍熱機費用550元/次(需熱機8~10小時)
3.Ar Sputtering每小時500元
4.列印圖譜或轉pdf檔每張10元
5.樣品一律在排定測量前2天送達，抽真空計時2小時，收費200元

非計畫付費

1.測量費用每小時4,000元(包括樣品設定時間，測量過程開啓中和槍)
2.使用GCIB離子槍測量費用每小時4,500元，另外加GCIB離子槍熱機費用5,000元/次(需熱機8~10小
   時)
3.Ar Sputtering每小時5,000元
4.列印圖譜或轉pdf檔每張10元
5.樣品一律在排定測量前2天送達，抽真空計時2小時，收費1,500元

連絡資訊：
儀器指導教授：黃暄益 教授
TEL：(03)5715131 Ext.33375
E-MAIL：hyhuang@mx.nthu.edu.tw

儀器管理員：謝瑞蘭 小姐 / Ms. Swee-Lan Cheah
TEL：(03)5715131Ext.33432 FAX:(03)5722915
E-MAIL：hrxps_nscric@my.nthu.edu.tw
儀器放置地點：國立清華大學化學館139室