• 儀器開放年度：2023年
• 廠牌及型號：D8 discover plus, Bruker
• 重要規格：18KW Rotating Anode Cu Target
• 儀器性能：
  除了一般傳統X光繞射量測實驗，可作材料之晶體結構（Phase ID）、晶格常數（Lattice Parameter）、定性分析（Crystal Qualitative Analysis）之外，本設備搭配不同掃瞄模式及分析軟體，可針對多層薄膜作膜厚（Thinckness）、密度（Density）；針對單晶或磊晶結構薄膜作膜厚（Thinckness）、組成比（Compound Ratio）分析。

收費標準﹕

一般廣角繞射(WAG)
1.自行操作：100元/件(量測費用) + 120元/小時(時段費用，累計)
2.委託操作：120元/件(量測費用) + 120元/小時(時段費用，累計)
3.上述量測費用每件計20分鐘，超時累計

低掠角薄膜繞射(GIXRD)
1.自行操作：100元/件(量測費用) + 120元/小時(時段費用，累計)
2.委託操作：120元/件(量測費用) + 120元/小時(時段費用，累計)

3.上述量測費用每件計20分鐘，超時累計

In-Plane薄膜繞射
1.自行操作：100元/件(量測費用) + 120元/小時(時段費用，累計)
2.委託操作：120元/件(量測費用) + 120元/小時(時段費用，累計)

3.上述量測費用每件計20分鐘，超時累計

 

X光反射率
1.自行操作：240元/件(量測費用) + 120元/小時(時段費用，累計)
2.委託操作：240元/件(量測費用) + 120元/小時(時段費用，累計)

 

變溫XRD
1.不開放自行操作
2.委託操作：120元/件(量測費用，每量測點)+400元/小時(時段費用，累計)

3.上述量測費用每點計20分鐘，超時累計；預約時段至少8小時起

4.粉末量測溫度範圍從室溫至1400度；薄膜量測溫度範圍從室溫至1100度

 

 

連絡資訊：
儀器指導教授：廖建能 教授
TEL：(03)5715131 Ext.33843 (Lab：33860)
E-MAIL：cnliao@mx.nthu.edu.tw

儀器管理員：林政佑 先生 / Mr. Cheng Yu Lin
TEL：(03)5715131Ext.35415   FAX：(03)5722366
E-MAIL：xrpd_nscric@my.nthu.edu.tw

儀器管理員：張皓凱 博士 /Dr. Haw Kai Chang
TEL：(03)5715131Ext.35415   FAX：(03)5722366
E-MAIL：xrpd_nscric@my.nthu.edu.tw

儀器放置地點：國立清華大學材料科技館材料所125室