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高功率多功能X光繞射儀(HPXRD)

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儀器中文名稱:高功率多功能X光繞射儀
儀器英文名稱:HIGH POWER X-RAY DIFFRACTOMETER
儀器英文簡稱:HPXRD
儀器設備說明:
  • 儀器開放年度:2023年
  • 廠牌及型號:D8 discover plus, Bruker
  • 重要規格:18KW Rotating Anode Cu Target
  • 儀器性能:
    除了一般傳統X光繞射量測實驗,可作材料之晶體結構(Phase ID)、晶格常數(Lattice Parameter)、定性分析(Crystal Qualitative Analysis)之外,本設備搭配不同掃瞄模式及分析軟體,可針對多層薄膜作膜厚(Thinckness)、密度(Density);針對單晶或磊晶結構薄膜作膜厚(Thinckness)、組成比(Compound Ratio)分析。

 

收費標準﹕

1.基本費:500元/次
2.自行操作:150元(每20分累計)


廣角繞射(WAG)/低掠角薄膜繞射(GIXRD):
 1.計畫委託操作:250元/件(量測費用) + 250元/小時(時段費用,累計)
 2.非計畫委託操作:1000元/件(量測費用) + 1000元/小時(時段費用,累計)
 3.上述量測費用每件計20分鐘,超時累計
 4.委託操作每次量測可折抵一小時基本費

IP/XRR/HRXRD/RSM/Residual stress/pole figure:
 1.計畫委託操作:300元/件(量測費用) + 250元/小時(時段費用,累計)
 2.非計畫委託操作:1500元/件(量測費用) + 1000元/小時(時段費用,累計)
 3.上述量測費用每件計20分鐘,超時累計
 4.委託操作每次量測可折抵一小時基本費

變溫XRD:
 1.不開放自行操作
 2.基本費(計畫委託:1000元/次;非計畫委託:2000元/次)
 3.計畫委託操作:500元/30分(時段費用,累計)
 4.非計畫委託操作:2500元/30分(時段費用,累計)
 5.高溫費用(超過1000度)
  計畫委託:500元/件;非計畫委託:1000元/件
 6.粉末量測溫度範圍從室溫至1400度;薄膜量測溫度範圍從室溫至1100度


 

連絡資訊:
儀器指導教授:廖建能 教授
TEL:(03)5715131 Ext.33843 (Lab:33860)
E-MAIL:cnliao@mx.nthu.edu.tw


 

儀器管理員:張皓凱 博士 /Dr. Haw Kai Chang
TEL:(03)5715131Ext.35415   FAX:(03)5722366
E-MAIL:xrpd_nscric@my.nthu.edu.tw

 

儀器管理員:林政佑 先生 / Mr. Cheng Yu Lin
TEL:(03)5715131Ext.35415   FAX:(03)5722366
E-MAIL:xrpd_nscric@my.nthu.edu.tw

 

儀器放置地點:國立清華大學材料科技館材料所125室

其它相關資訊:PDF下載 (服務項目、申請服務辦法、預期回件時間、參考資料)

 

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