• 儀器開放年度：2023年
• 廠牌及型號：D8 discover plus, Bruker
• 重要規格：18KW Rotating Anode Cu Target
• 儀器性能：
  除了一般傳統X光繞射量測實驗，可作材料之晶體結構（Phase ID）、晶格常數（Lattice Parameter）、定性分析（Crystal Qualitative Analysis）之外，本設備搭配不同掃瞄模式及分析軟體，可針對多層薄膜作膜厚（Thinckness）、密度（Density）；針對單晶或磊晶結構薄膜作膜厚（Thinckness）、組成比（Compound Ratio）分析。

收費標準﹕

一般廣角繞射(WAG)、低掠角薄膜繞射(GIXRD)、In-Plane薄膜繞射、X光反射率、高解析繞射/倒晶格、Rocking Curve
量測費用
1.計畫自行操作：180元/件(件/20分，時間累計) 
2.計畫委託操作：240元/件(件/20分，時間累計) 
3.非計畫委託操作：1200元/件(件/20分，時間累計)

時段費用
1.計畫自行操作 ：180元/小時
2.計畫委託操作 ：240元/小時
3.非計畫委託操作：1200元/小時

變溫XRD
基本費用
1.計畫委託操作 ：480元/次
2.非計畫委託操作：2400元/次

量測費用
1.計畫委託操作：240元/每量測點 
2.非計畫委託操作：1200元/每量測點

時段費用
1.計畫委託操作：240元/時
2.非計畫委託操作：1200元/時

備註：粉末量測溫度範圍從室溫至1400度；薄膜量測溫度範圍從室溫至1100度
 

連絡資訊：
儀器指導教授：廖建能 教授
TEL：(03)5715131 Ext.33843 (Lab：33860)
E-MAIL：cnliao@mx.nthu.edu.tw

 

儀器管理員：張皓凱 博士 /Dr. Haw Kai Chang
TEL：(03)5715131Ext.35415   FAX：(03)5722366
E-MAIL：xrpd_nscric@my.nthu.edu.tw

儀器管理員：林政佑 先生 / Mr. Cheng Yu Lin
TEL：(03)5715131Ext.35415   FAX：(03)5722366
E-MAIL：xrpd_nscric@my.nthu.edu.tw

儀器放置地點：國立清華大學材料科技館材料所125室